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振動樣品臺 參考價：面議
產品詳細介紹：可適用于高真空條件下對粉體材料的表面包覆鍍膜實驗(更新日期2019.1.11）產品型號振動樣品臺產品特點1、振動樣品臺安裝在真空腔體底部2、粉末放...
微型PECVD系統(tǒng) 參考價：面議
產品簡介：微型PECVD系統(tǒng)采用?3"×16"的石英腔體，內部設有加熱圈對樣品進行加熱，溫度可以達到400℃，且采用程序化控溫，系統(tǒng)還配有2通道混氣裝置和雙旋機...
鈣鈦礦鍍膜機 參考價：面議
產品簡介：鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀 參考價：面議
產品簡介：VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學...
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 參考價：面議
產品簡介：VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜...
OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐 參考價：面議
產品簡介：OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐是一款快速蒸發(fā)管式爐，專門用于PVD或CSS法制作薄膜
GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：面議
產品簡介：GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al、Au等）和小分子的有機物
GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：面議
產品簡介：GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀主要應用于大專院校、科研機構、企業(yè)實驗室及進行微小產品真空鍍膜工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產的單位
掩膜版 參考價：面議
產品詳細介紹：適用于鍍膜設備的配套使用產品型號掩膜版主要特點不銹鋼材質，需要根據客戶的實驗要求加工定制
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